太陽電池用成膜装置

当社は、プラズマを利用した、新しいイオンプレーティング法を開発しました。


このイオンプレーティング法は、従来の成膜法ではできなかった大面積に、均一な成膜が可能です。現在は、フラットパネルディスプレイの透明導電膜(ITO)の成膜に注目し、従来のスパッタリング装置の代替を図って、商用生産機を開発中です。成膜の材料としては、この透明導電膜(ITO)の他、Si,Mg,C,Ti,Crなどの金属、ないしこれらの酸化物、窒化物および炭化物などの合金の成膜が可能、積極的に応用展開を図っていく予定です。