レーザアニーリング装置

独自のダブルパルスプロセスを可能に。半導体用のレーザアニーリング装置

独自のダブルパルスプロセスを可能にした固体レーザアニーリング装置です。高繰返し、高パルスエネルギ安定性、メンテナンスフリー、コンパクト設計を備え、次世代プロセスの開発を促進します。

特長

半導体用レーザアニーリング装置

  1. 1高いパルスエネルギ安定性

エネルギフィードバック機能を搭載。面内均一性σ≦1%を達成。

  1. 2ダブルパルスコントロール

独自のダブルパルスプロセスにより、深さ方向の温度分布と時間をコントロールします。温度制約下でも高温のアニールプロセスが可能です。

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メカトロニクス事業部

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精密位置決め装置、レーザアニーリング装置、レーザドリル装置、制御システム、モーションコンポーネント